Merck erweitert Produktion von Halbleitermaterialien in Korea

27. März 2025

Das deutsche Unternehmen Merck bereitet den Produktionsstart von chemischem mechanischem Polierschlamm (CMP-Slurry) in Korea vor, nachdem derzeit Qualitätstests mit lokalen Kunden durchgeführt werden. CMP-Slurry ist ein entscheidendes Material zur Oberflächenbehandlung von Halbleiter-Wafern und soll ab der ersten Jahreshälfte 2022 ausgeliefert werden. Es wird zusammen mit CMP-Pads verwendet, um Waferflächen zu polieren und zu planarisieren. Merck hatte zuvor eine Produktionslinie für CMP-Slurry in Pyeongtaek in der Provinz Gyeonggi errichtet – Teil des Korea Advanced Technology Center (K-ATeC), das 2020 eröffnet wurde. Elektronische Geräte, Halbleiter-Komponenten, Mess- und Prüftechnik können eine KC-Zertifizierung erfordern, um für den Import und Verkauf in Korea zugelassen zu werden.

Da CMP-Materialien je nach Hersteller unterschiedliche Eigenschaften aufweisen müssen, setzen internationale Anbieter zunehmend auf lokale Entwicklung und Produktion, um schnell auf veränderte Prozessanforderungen reagieren zu können. Neben Merck errichtet auch das japanische Unternehmen Showa Denko CMP-Slurry-Anlagen in Korea, was den Wettbewerb mit lokalen Anbietern wie Dongjin Semichem und KCTech verschärft. Darüber hinaus plant Merck die Produktion einer Reinigungsflüssigkeit für extreme ultraviolette (EUV) Lithographie in Korea – ein spezielles Material zur Entfernung von Rückständen nach der EUV-Belichtung. Auch dieses Produkt, das bislang im Ausland hergestellt wurde, befindet sich derzeit in der Qualitätsprüfung mit koreanischen Kunden. Das 2019 übernommene Unternehmen Versum Materials baut ebenfalls seine Präsenz auf dem koreanischen Halbleitermarkt aus und liefert unter anderem Materialien für Double Patterning Technology (DPT) an Samsung Electronics, das etwa die Hälfte seines DPT-Bedarfs über Versum deckt.

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